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193 nm 화학 증폭형 감광제를 위한 노광 시뮬레이션의 모델링 분석

오혜근

ConferenceIssue Date2000Citation한국물리학회Publisher한국물리학회Place포항공대
화학 증폭형 감광제의 패턴 유무에 따른 현상 변수 차이

오혜근

ConferenceIssue Date2000Citation한국물리학회Publisher한국물리학회Place포항공대
The Effect of Temperature Variation during Post Exposure Bake on Pattern Critical Dimension

오혜근

ConferenceIssue Date2000Citation한국물리학회Publisher한국물리학회Place포항공대
전열처리 전후의 193 nm 용 화학 증폭형 감광제의 특성 변화

오혜근

ConferenceIssue Date2000Citation한국물리학회Publisher한국물리학회Place포항공대
Dual Mechanism Exposure Model of CAR

오혜근

ConferenceIssue Date1999Citation한국물리학회Publisher한국물리학회Place건국대
Simulated Annealing 방법을 이용한 노광 변수 추출 시뮬레이터 개발

오혜근

ConferenceIssue Date1999Citation한국물리학회Publisher한국물리학회Place건국대
노광효과에 따른 I-선 및 g-선 감광제와 193 nm 감광제의 두께 변화 메카니즘 비교

오혜근

ConferenceIssue Date1999Citation한국물리학회Publisher한국물리학회
193 nm 용 화학 증폭형 감광제의 노광 후 열처리 공정시 두께 감소

오혜근

ConferenceIssue Date1999Citation한국물리학회Publisher한국물리학회
Optical Property and Durability of 193 nm Pellicle

오혜근

ConferenceIssue Date1999Citation한국물리학회Publisher한국물리학회
노광후 열처리 과정에서 확산을 고려한 전산모사

오혜근

ConferenceIssue Date2000Citation한국물리학회Publisher한국물리학회Place육군사관학교
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