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기판 온도 변화에 따른 Cu(In,Ga)Se2 박막에 관한 연구

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dc.contributor.author박정철-
dc.contributor.author추순남-
dc.date.available2020-02-29T01:45:07Z-
dc.date.created2020-02-12-
dc.date.issued2013-
dc.identifier.issn1226-7945-
dc.identifier.urihttps://scholarworks.bwise.kr/gachon/handle/2020.sw.gachon/15133-
dc.description.abstract본 논문은 동시 진공증발법으로 Cu(InGa)Se2 박막을 제작하였으며 각 단계별로 제작된 시편의 표면 및 특성을 분석하였다. 1단계에서 기판온도가 400℃일 때 InGaSe2상이 형성되었으며 기공이 많이 발생되지 않았다. 2단계,3단계에서는 기판온도가 480℃ 이상일 때 입자 크기가 커졌으며 Cu(In0.7Ga0.3)Se2 상이 형성되었다. 열처리 전·후의 XRD분석 결과, 열처리 후에는 Cu2Se상이 없어지고 Cu(ln0.7Ga0.3)Se2 단일상으로 구성되었다. 열처리 전·후의의 흡수 스펙트럼은 변화가 없었다. 즉 흡수 스펙트럼은 열처리와는 무관하다는 것을 알 수가 있었다.-
dc.language한국어-
dc.language.isoko-
dc.publisher한국전기전자재료학회-
dc.relation.isPartOf전기전자재료학회논문지-
dc.title기판 온도 변화에 따른 Cu(In,Ga)Se2 박막에 관한 연구-
dc.title.alternativeA Study on Cu(In,Ga)Se2 Thin Film with Substrate Temperature Change-
dc.typeArticle-
dc.type.rimsART-
dc.description.journalClass2-
dc.identifier.doi10.4313/JKEM.2013.26.12.888-
dc.identifier.bibliographicCitation전기전자재료학회논문지, v.26, no.12, pp.888 - 893-
dc.identifier.kciidART001824477-
dc.citation.endPage893-
dc.citation.startPage888-
dc.citation.title전기전자재료학회논문지-
dc.citation.volume26-
dc.citation.number12-
dc.contributor.affiliatedAuthor박정철-
dc.contributor.affiliatedAuthor추순남-
dc.subject.keywordAuthorCo-evaporation method-
dc.subject.keywordAuthorCu(In-
dc.subject.keywordAuthorGa)Se2-
dc.subject.keywordAuthorVacancy-
dc.subject.keywordAuthorAbsorbency spectra-
dc.description.journalRegisteredClasskci-
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