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플라즈마 삽입전극의 전류에 미치는 밀도 구배의 영향Influence of the Density Gradient on the Current of the Electrode Immersed in the Non-uniform Plasma
- Other Titles
- Influence of the Density Gradient on the Current of the Electrode Immersed in the Non-uniform Plasma
- Issue Date
- Jun-2011
- Publisher
- 한국전기전자재료학회
- Keywords
- Secondary electron emission coefficient; Conducting current; Ion current density; Plasma density distribution; Non-uniform plasma
- Citation
- 전기전자재료학회논문지, v.24, no.6, pp.504 - 509
- Indexed
- KCI
- Journal Title
- 전기전자재료학회논문지
- Volume
- 24
- Number
- 6
- Start Page
- 504
- End Page
- 509
- ISSN
- 1226-7945
- Abstract
- 비균질 플라즈마에 삽입한 전극에 흐르는 전도 전류는 이온 전류와 이차전자 방출 전류로 이루어져 있으며 이차전자 전류는 타겟앞 플라즈마 생성에 영향을 미친다. 이온 전류는 쉬스를 통과하는 이온의 양에 의해 결정되고 쉬스를 통과하는 이온의 양은 쉬스가 접하는 플라즈마 밀도에 의해 결정된다. 따라서 이차전자 전류는 플라즈마 밀도 구배를 고려하여 입사되는 이온에 의해 해석이 가능하였다. 이를 확인하기 위해서 안테나 입력 전압 1 kW의 Ar 유도결합형 플라즈마 내에 석영 튜브 속에 금속전극(stainless steel)을 삽입하여 1차원 쉬스 전개를 가정하였으며, 전극 전면의 밀도 분포를 측정한 후 1 kV ∼ 6 kV의 음 전압을 인가하여 전극의 전도 전류를 측정하고 이온 전류를 분석하였다.
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Collections - 서울 공과대학 > 서울 전기공학전공 > 1. Journal Articles
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Related Researcher
- Ko, Kwang Cheol
- COLLEGE OF ENGINEERING (MAJOR IN ELECTRICAL ENGINEERING)