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원거리 플라즈마 원자층 증착법으로 증착된 탄소 함유 실리콘 기반 저 유전율 물질의 특성
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| DC Field | Value | Language |
|---|---|---|
| dc.contributor.author | 전형탁 | - |
| dc.date.accessioned | 2021-08-02T14:33:36Z | - |
| dc.date.available | 2021-08-02T14:33:36Z | - |
| dc.date.issued | 2019-05-09 | - |
| dc.identifier.uri | https://scholarworks.bwise.kr/hanyang/handle/2021.sw.hanyang/19185 | - |
| dc.title | 원거리 플라즈마 원자층 증착법으로 증착된 탄소 함유 실리콘 기반 저 유전율 물질의 특성 | - |
| dc.type | Conference | - |
| dc.citation.conferenceName | 2019년 춘계학술대회 반도체&디스플레이산업 지속 성장을 위한 기술혁신 전략 | - |
| dc.citation.conferencePlace | 제주대학교 아라컨벤션홀 | - |
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Collections - 서울 공과대학 > 서울 신소재공학부 > 2. Conference Papers
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