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세리아 기반 CMP 슬러리에서 대전된 첨가물이 poly-SI과 SiO2 필름의 연마 선택비에 미치는 영향

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dc.contributor.author박재근-
dc.date.accessioned2021-08-03T01:51:48Z-
dc.date.available2021-08-03T01:51:48Z-
dc.date.issued2017-07-01-
dc.identifier.urihttps://scholarworks.bwise.kr/hanyang/handle/2021.sw.hanyang/31921-
dc.title세리아 기반 CMP 슬러리에서 대전된 첨가물이 poly-SI과 SiO2 필름의 연마 선택비에 미치는 영향-
dc.typeConference-
dc.citation.conferenceName대한전자공학회 2017 하계종합학술대회-
dc.citation.conferencePlace해운대 그랜드호텔-
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서울 공과대학 > 서울 융합전자공학부 > 2. Conference Papers

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