저 입사각을 이용한 Al 나노막대 박막의 증착

Abstract

Low incidence Glancing Angle Deposition (GLAD)을 사용하여 Helical 구조을 가진 thin film은 또 하나의 박막 증착 기술로 수년간 활발히 연구 진행되어오고 있다. 기존 실험에서는 Helical 구조를 갖는 thin film을 형성하기 위해서 아주 낮은 회전속도, 저 입사각, 고 증착률이 삼위일체 될 때 형성된다는 것을 알 수 있었다. 그러나 우리는 Angle과 회전속도 차이를 주기적으로 두어 증착함으로써, Helical 구조를 갖는 Nanorod를 Thermal Evaporator 장비를 사용하여 구현해 보기로 하였다. 본 실험은 Al을 증착물질로 하여 입사각 θ을 θ<10° 이하로 유지시키면서, 주된 증착률을 0.3Å/sec로 고정시켰다. 또한 1rpm으로 도는 Motor를 기판지지대에 장착하고 그 끝에 기판을 붙여서 실험하였다. 먼저 1rpm의 회전속도로 1시간정도 성장시킨 후, 1시간정도 회전을 멈춰 증착시키고 증착되는 입사각의 위치를 바꿔주기 위해 10초간 1rpm으로 회전시켜 증착하였다. 위와 같은 방법으로 반복적으로 증착시킴에 따라 기존의 방법과 다른 형태의 구조를 갖는 nanorod thin film을 제작하였다. 실험 결과 Angle과 회전속도의 차이를 주기적으로 줌으로써 증착되는 입사각의 위치가 달라지면서, 특이한 형태의 구조를 갖는 nanorod thin film을 전자현미경으로 관찰 할 수 있었다.