유도결합 플라즈마(ICP)를 이용한 Er 첨가된 광도파막 식각 특성 연구

Abstract

Er이 첨가된 Waveguide 형태의 광증폭기는 기존의 EDFA(Erbium Doped Fiber Amplifier)에 비하여 크기가 작고, 대량생산이 가능하므로 제조 원가를 낮출 수 있고, 여러 형태의 수동소자들을 하나의 칩에 제작하여 고기능의 복합소자를 제조할 수 있는 장점을 가지고 있다. 본 연구에서는 화염가수분해증착법(Flame Hydrolysis Deposition : FHD)을 이용하여 실리콘(Si)/실리카(SiO2) 광도파막을 제조하고, 이 박막에 Solution Doping 법을 이용하여 Er3+ dopant를 첨가하였다. 제조된 Er 첨가 실리카 박막은 고밀도 플라즈마원인 유도결합 플라즈마(ICP)를 이용해 광도파로를 제작하였으며 식각 공정 시 주요 변수인 source power, bias voltage, working pressure, gas flow rate 등을 변화시키며 식각 특성을 관찰하였다. Surface profiler, XPS, SEM을 통한 식각률, 표면조도 및 식각단면을 측정하여 최적의 식각 조건을 구하였다.