Nano-SiO2 CMP Slurry 특성에 따른 응집체 제어요소에 대한 효과

Abstract

화학적 및 기계적 평탄화(CMP: chemical mechanical planarization) 슬러리가 갖추어야 할 중요한 요소로는 연마제 특성, 분산안정성, 전기 화학적 특성들이 있다. 이중에서 공정결함을 제어하고 광역평탄화를 이루는데 가장 중요한 요소들로서는 응집체 제어와 동적 안정성 확보, 그리고 선택도 향상을 들 수 있다. 특히 슬러리 중의 응집체 형성은 연마중 결함을 유발하는 가장 큰 요인이며 CMP 슬러리의 재현성과 신뢰성을 결정하는 가장 큰 요인으로 알려져 있어 이에 대한 체계적인 연구가 절실한 상황이다. 본 연구에서는 CMP 슬러리 제조시 효과적인 응집체 제어를 위해 high energy mill을 사용하여 응집체를 제어하는 방법을 시도하였다 ILD용 Slurry에 대한 밀링효과를 기존의 low energy mill과 분석한 결과 high energy mill을 이용하는 경우 평균 유효 입자크기를 훨씬 줄일 수 있었으며 슬러리의 안정성도 향상시킬 수 있음을 알 수 있었다