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STI CMP공정용 Nano CeO2 합성 및 분산안정성에 관한 연구
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| DC Field | Value | Language |
|---|---|---|
| dc.contributor.author | 백운규 | - |
| dc.date.accessioned | 2021-08-04T08:40:16Z | - |
| dc.date.available | 2021-08-04T08:40:16Z | - |
| dc.date.issued | 2001-10-20 | - |
| dc.identifier.uri | https://scholarworks.bwise.kr/hanyang/handle/2021.sw.hanyang/78989 | - |
| dc.description.abstract | STI(Shallow Trench Isolation) CMP공정에 사용되는 슬러리로는 SiO2 : Si3n4고 선택비를 가지는 나노 CeO2 슬러리가 사용된다. 하지만 CeO2 입자의 형상학적 특성상 CMP공정 후 웨이퍼 표면에 긁힘 현상이 나타난다. 따라서 긁힘현상을 방지하고 특성이 우수한 슬러리가 요구되며] 이에 부합하는 나노 CeO2 입자를 합성하는 연구가 활발히 진행되고 있다. 본 연구에서는 공침법을 이용하여 제조된 나노 CeO2입자의 특성과 수계분산매체에서 나노 CeO2 입자의 분산안졍성에 대해 관찰하였다. Cerium Carbinate와 Cerium Nitrate를 출발원료로 각각 질산과 물에 녹인 다음 Ammonium hydroxide를 첨가하고 산화반응 온도와 교반 속도를 다르게 하여 나노 입자를 합성하였다. 이렇게 제조된 입자의 형상학적 특성과 수계 분산매체에서의 계면 물성과 분산 안정성을 관찰하여 STI(Shallow Trench Isolation) CMP공정용 슬러리에 대한 적용 가능성을 살펴보았다. | - |
| dc.title | STI CMP공정용 Nano CeO2 합성 및 분산안정성에 관한 연구 | - |
| dc.type | Conference | - |
| dc.citation.conferenceName | 2001년도 추계 한국세라믹학회 | - |
| dc.citation.conferencePlace | KAIST | - |
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Collections - 서울 공과대학 > 서울 에너지공학과 > 2. Conference Papers
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- Paik, Ungyu
- COLLEGE OF ENGINEERING (DEPARTMENT OF ENERGY ENGINEERING)