The fabrication of Er/Al doped silica film for 1.55um optical amplifier

Abstract

본 연구에서는 화염가수분해증착법(Flame Hydrolysis Deposition : FHD)을 이용하여 실리콘(Si)/실리카(SiO2) 광도파막을 제조하고, 이 박막에 Solution Doping 법을 이용해 Er/Al을 복합 첨가하여 광증폭 매질을 제작하는 연구를 수행하였다. 형광 측정을 통해 Al의 복합첨가에 의한 형광효율의 감소 방지 및 형광 스펙트럼의 반치폭 증가를 확인할 수 있었다. 즉, Al가 0.48 wt％가 첨가된 경우, Er가 0.14 wt％ 첨가되는 경우에도 형광세기가 감소하지 않음을 확인하였으며, 1.5 μm대역의 형광스펙트럼의 대역폭이 약 5 nm 정도 증가됨을 관찰하였다.