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근접주사현미경의 관점에서 플랜지된 평행평판 도파관과 근접도체스트립과의 결합에 관한 연구A Study on the Coupling of a Flanged Parallel-Plate Waveguide to a Nearby Conducting Strip from the Viewpoint of Near-Field Scanning Microscopy
- Other Titles
- A Study on the Coupling of a Flanged Parallel-Plate Waveguide to a Nearby Conducting Strip from the Viewpoint of Near-Field Scanning Microscopy
- Issue Date
- 2009
- Publisher
- 한국정보통신학회
- Keywords
- Coupling; flanged parallel-plate waveguide(FPPW); conducting strip; near-field scanning microscopy(NSM); 결합; 플랜지된 평행평판도파관; 도체 스트립; 근역장 주사현미경
- Citation
- 한국정보통신학회논문지, v.13, no.11, pp 2260 - 2266
- Pages
- 7
- Journal Title
- 한국정보통신학회논문지
- Volume
- 13
- Number
- 11
- Start Page
- 2260
- End Page
- 2266
- ISSN
- 2234-4772
2288-4165
- Abstract
- 본 논문에서는 플랜지된 평행평판도파관으로 급전된 슬릿과 이에 평행하고 근접하는 도체 스트립과의 전자기적인 결합문제를 단순화된 근접주사현미경의 관점에서 연구하였다. 슬릿의 등가어드미턴스, 슬릿근처 도파관 내부 및 외부의 무효전력, TEM파 전압반사계수의 크기 및 위상 등의 변화결과로부터 플랜지된 평행평판도파관의 특성을 조사하였다. 제안된 구조의 근접주사현미경으로서의 성능을 다양한 구조적인 파라미터들(도파관 높이, 슬릿의 폭, 스트립의 폭, 슬릿과 스트립 간격, 슬릿 폭과 도파관 높이의 비)이 TEM파 전압반사계수의 크기와 위상에 미치는 영향을 관찰하여 점검하였다. 슬릿으로부터 스트립의 변위에 따른 전압반사계수의 변화결과로부터 도파관의 높이가 작을 때 보다 높은 주사해상도를 얻을 수 있음과 반사계수의 크기변화에 비해 위상변화가 훨씬 민감함을 확인하였다.
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