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Showing results 1 to 1 of 1
Removal characteristics of hillock on SnO2 thin film by chemical mechanical polishing process
Seo, Y.J.; Kim, N.H.; Chang, E.G.; Park, J.; Choi, G.W.; Lee, W.S.
Article
Issue Date
2005
Citation
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A, v.23, no.4, pp 1133 - 1136
Publisher
A V S AMER INST PHYSICS
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