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SCOPUS
Aerial image characteristics of modified absorber model for extreme ultraviolet lithography (EUVL)
Kang, In-Yong; Ahn, Jinho; Oh, Hye-Keun; Chung, Yone-Chae
Article
Issue Date
2005
Citation
Digest of Papers - Microprocesses and Nanotechnology 2005: 2005 International Microprocesses and Nanotechnology Conference, v.2005, pp 84 - 85
Publisher
IEEE
1
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