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Electron-beacnn lithography를 사용한Sub-0.1 micron T-gate 제작에 관한 연구
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| DC Field | Value | Language |
|---|---|---|
| dc.contributor.author | 오재응 | - |
| dc.date.accessioned | 2021-06-23T10:46:59Z | - |
| dc.date.available | 2021-06-23T10:46:59Z | - |
| dc.date.created | 2020-12-17 | - |
| dc.date.issued | 1993-11-01 | - |
| dc.identifier.uri | https://scholarworks.bwise.kr/erica/handle/2021.sw.erica/37714 | - |
| dc.publisher | 대한 전자 공학회 | - |
| dc.title | Electron-beacnn lithography를 사용한Sub-0.1 micron T-gate 제작에 관한 연구 | - |
| dc.type | Conference | - |
| dc.contributor.affiliatedAuthor | 오재응 | - |
| dc.identifier.bibliographicCitation | 전자 공학회 추계 학술 대회 | - |
| dc.relation.isPartOf | 전자 공학회 추계 학술 대회 | - |
| dc.citation.title | 전자 공학회 추계 학술 대회 | - |
| dc.type.rims | CONF | - |
| dc.description.journalClass | 2 | - |
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