스퍼터링된 산화 아연 박막의 레이저 직접 식각 시기판에 의한 영향
DC Field | Value | Language |
---|---|---|
dc.contributor.author | 오기택 | - |
dc.contributor.author | 권상직 | - |
dc.contributor.author | 조의식 | - |
dc.date.available | 2020-02-29T01:44:21Z | - |
dc.date.created | 2020-02-12 | - |
dc.date.issued | 2013 | - |
dc.identifier.issn | 1226-7945 | - |
dc.identifier.uri | https://scholarworks.bwise.kr/gachon/handle/2020.sw.gachon/15088 | - |
dc.description.abstract | 글라스 및 플렉서블 기판 등 다양한 기판 위에 스퍼터링으로 증착된 산화 아연 박막을 1,064 nm 파장의 Nd:YVO4 레이저를 이용하여 직접 패터닝을 시도하였다. 실험 결과, 특정 주파수 및 레이저 빔 스캔 스피드 조건에서 폴리카보네이트(PC) 기판 위 증착된 산화 아연 박막의 식각된 패턴을 얻을 수 있었다. 낮은 스캔 스피드의 경우 플렉서블 기판이 레이저 빔 에너지의 밀집으로 인하여 파괴되는 것을 확인하였으며, 기판에 따른 박막 패터닝 결과의 차이는 기판의 열팽창 계수와 열전도도의 차이로부터 발생했다 결론내릴 수 있었다. | - |
dc.language | 한국어 | - |
dc.language.iso | ko | - |
dc.publisher | 한국전기전자재료학회 | - |
dc.relation.isPartOf | 전기전자재료학회논문지 | - |
dc.title | 스퍼터링된 산화 아연 박막의 레이저 직접 식각 시기판에 의한 영향 | - |
dc.title.alternative | Effects of Various Substrates on the Laser Direct Etching of the Sputtered ZnO Films | - |
dc.type | Article | - |
dc.type.rims | ART | - |
dc.description.journalClass | 2 | - |
dc.identifier.doi | 10.4313/JKEM.2013.26.12.894 | - |
dc.identifier.bibliographicCitation | 전기전자재료학회논문지, v.26, no.12, pp.894 - 898 | - |
dc.identifier.kciid | ART001824481 | - |
dc.citation.endPage | 898 | - |
dc.citation.startPage | 894 | - |
dc.citation.title | 전기전자재료학회논문지 | - |
dc.citation.volume | 26 | - |
dc.citation.number | 12 | - |
dc.contributor.affiliatedAuthor | 오기택 | - |
dc.contributor.affiliatedAuthor | 권상직 | - |
dc.contributor.affiliatedAuthor | 조의식 | - |
dc.subject.keywordAuthor | ZnO | - |
dc.subject.keywordAuthor | Glass | - |
dc.subject.keywordAuthor | PET | - |
dc.subject.keywordAuthor | PC | - |
dc.subject.keywordAuthor | Nd:YVO4 laser | - |
dc.subject.keywordAuthor | Direct etching | - |
dc.description.journalRegisteredClass | kci | - |
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