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2중 유전체층 사이의 완전도체띠 격자구조에 의한 TE 산란 해석
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| DC Field | Value | Language |
|---|---|---|
| dc.contributor.author | 윤의중 | - |
| dc.date.available | 2020-02-27T06:42:01Z | - |
| dc.date.created | 2020-02-12 | - |
| dc.date.issued | 2019 | - |
| dc.identifier.issn | 2289-0238 | - |
| dc.identifier.uri | https://scholarworks.bwise.kr/gachon/handle/2020.sw.gachon/2554 | - |
| dc.description.abstract | 본 논문에서는 2중 유전체층 사이의 완전도체띠 격자구조에 의한 TE(transverse electric) 산란 문제는 전자파 수치해석 방법으로 알려진 FGMM(Fourier-Galerkin moment method)를 이용하여 해석하였다. 경계조건들은 미지의 계수를 구하기 위하여 이용하였고, 도체띠의 해석을 위해 완전도체 경계조건을 적용하였다. 도체띠의 폭과 주기, 2중 유전층 사이의 비유전율과 두께 및 입사각에 대해 정규화된 반사전력과 투과전력을 계산하였다. 전반적으로 유전율의 값이 증가하면 반사전력은 증가하며, 상대적으로 투과전력은 감소하였다. 유전율이 증가할수록 도체띠에 유도되는 전류밀도는 양쪽 끝으로 진행하면서 증가하였다. 본 논문의 제안된 구조에 대한 수치결과들은 기존 논문의 수치해석 결과들과 비교하여 매우 잘 일치하였다. | - |
| dc.language | 한국어 | - |
| dc.language.iso | ko | - |
| dc.publisher | 한국인터넷방송통신학회 | - |
| dc.relation.isPartOf | 한국인터넷방송통신학회 논문지 | - |
| dc.title | 2중 유전체층 사이의 완전도체띠 격자구조에 의한 TE 산란 해석 | - |
| dc.title.alternative | Analysis of TE Scattering by a Conductive Strip Grating Between a Double Dielectric Layer | - |
| dc.type | Article | - |
| dc.type.rims | ART | - |
| dc.description.journalClass | 2 | - |
| dc.identifier.doi | 10.7236/JIIBC.2019.19.2.47 | - |
| dc.identifier.bibliographicCitation | 한국인터넷방송통신학회 논문지, v.19, no.2, pp.47 - 52 | - |
| dc.identifier.kciid | ART002462283 | - |
| dc.citation.endPage | 52 | - |
| dc.citation.startPage | 47 | - |
| dc.citation.title | 한국인터넷방송통신학회 논문지 | - |
| dc.citation.volume | 19 | - |
| dc.citation.number | 2 | - |
| dc.contributor.affiliatedAuthor | 윤의중 | - |
| dc.subject.keywordAuthor | TE scattering | - |
| dc.subject.keywordAuthor | Conductive boundary condition | - |
| dc.subject.keywordAuthor | double dielectric layer | - |
| dc.subject.keywordAuthor | PMM | - |
| dc.subject.keywordAuthor | FGMM. | - |
| dc.description.journalRegisteredClass | kci | - |
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- College of IT Convergence (의공학과)