RF 마그네트론 스퍼터링을 이용한 박막 증착에 관한 연구A Study of Thin Film deposition using of RF Magnetron Sputtering
- Other Titles
- A Study of Thin Film deposition using of RF Magnetron Sputtering
- Authors
- 이우식
- Issue Date
- 2018
- Publisher
- 한국정보전자통신기술학회
- Keywords
- N-type; Ohmic contact; P-type; RF Magnetron Sputtering; Sheet resistance; Substrate temperature
- Citation
- 한국정보전자통신기술학회 논문지, v.11, no.6, pp.772 - 777
- Journal Title
- 한국정보전자통신기술학회 논문지
- Volume
- 11
- Number
- 6
- Start Page
- 772
- End Page
- 777
- URI
- https://scholarworks.bwise.kr/gachon/handle/2020.sw.gachon/4572
- ISSN
- 2005-081X
- Abstract
- 본 논문은 RF 마크네트론 스퍼터링 장비를 이용하여 ITO 유리에 N-type 및 P-type을 증착하였다. N-Type의 오믹접촉은 모든 조건에서 잘 되었다. 면저항은 RF Power가 증가할수록 면 저항이 증가되는 현상을 나타내었다. 증착한 박막의 표면을 분석해 본 결과, RF Power가 250W이고, 기판온도가 250℃의 조건에서 입자가 균일하고 크기가 일정한 박막이 증착 된 것으로 측정되었다. P-Type은 모든 조건에서 오믹접촉이 잘 이루어졌으며 면저항은 RF Power가 증가할수록 증가되는 것으로 나타내었다. RF Power가 증가할수록 두께가 증가하고 안정화 된 것을 알 수가 있었다. PN junction 박막과 NP junction 박막은 스퍼터링 시간이 증가할수록 박막의 두께가 증가하고 안정화 된 것을 알 수가 있었다. PN junction 박막을 제작한 결과, 변환효율은 스퍼터링 시간이 10분일 때 0.2로 가장 우수하였다.
- Files in This Item
- There are no files associated with this item.
- Appears in
Collections - 공과대학 > 화공생명공학과 > 1. Journal Articles
![qrcode](https://api.qrserver.com/v1/create-qr-code/?size=55x55&data=https://scholarworks.bwise.kr/gachon/handle/2020.sw.gachon/4572)
Items in ScholarWorks are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.