RF 마그네트론 스퍼터 방법에 의한 다결정 NiO 박막의 비저항 변화Colossal Resistivity Change of Polycrystalline NiO Thin Film Deposited by RF Magnetron Sputtering
- Other Titles
- Colossal Resistivity Change of Polycrystalline NiO Thin Film Deposited by RF Magnetron Sputtering
- Authors
- 김영은; 노영수; 박동희; 최지원; 채근화; 김태환; 최원국
- Issue Date
- Nov-2010
- Publisher
- 한국진공학회
- Keywords
- NiO; Resistivity; Metal-insulator transition; RF magnetron sputtering; NiO; 비저항; 금속-부도체 전이; RF 마그네트론 스퍼터링
- Citation
- Applied Science and Convergence Technology, v.19, no.6, pp.475 - 482
- Indexed
- KCI
- Journal Title
- Applied Science and Convergence Technology
- Volume
- 19
- Number
- 6
- Start Page
- 475
- End Page
- 482
- URI
- https://scholarworks.bwise.kr/hanyang/handle/2021.sw.hanyang/172622
- DOI
- 10.5757/JKVS.2010.19.6.475
- ISSN
- 1225-8822
- Abstract
- NiO 산화물 타겟을 이용한 RF 마그네트론 스퍼터 방법으로 유리 기판 위에 NiO 박막을 Ar 가스만을 사용하여 증착하였으며, 증착 온도에 따라 NiO 박막 특성에 미치는 영향을 조사하였다. XRD 측정으로부터 증착된 박막의 결정구조는 200oC 이하에서 (111) 면의 우선 배향성으로 보이다가 350oC 이상에서 (220) 면의 우선 배향성을 가지는 다결정 입방구조임을 확인하였다. NiO 박막의 전기적 특성의 변화는 기판의 온도가 200˚C까지는 105 Ωcm의 부도체에 가까운 높은 비저항을 보였고 기판의 온도가 300˚C 이상에서는 10-1∼10-2Ωcm의 도체의 특성을 보이는 낮은 비저항으로 감소하는 Mott-Insulator Transition (MIT) 현상을 관측하였다. NiO 박막 내의 증착 온도 변화에 따른 ∼107 정도의 큰 비저항 변화를 결정성, 결정립의 변화 및 밴드 갭의 변화 등으로 설명하였다.
- Files in This Item
-
Go to Link
- Appears in
Collections - 서울 공과대학 > 서울 융합전자공학부 > 1. Journal Articles
![qrcode](https://api.qrserver.com/v1/create-qr-code/?size=55x55&data=https://scholarworks.bwise.kr/hanyang/handle/2021.sw.hanyang/172622)
Items in ScholarWorks are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.