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CF4, Cl2 가스를 이용한 유기-무기 다층 분자막 구조 EUV 포토레지스트의 건식 현상 공정 성능 비교 연구

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dc.contributor.author안진호-
dc.date.accessioned2023-09-04T19:08:34Z-
dc.date.available2023-09-04T19:08:34Z-
dc.date.issued20230822-
dc.identifier.urihttps://scholarworks.bwise.kr/hanyang/handle/2021.sw.hanyang/190116-
dc.titleCF4, Cl2 가스를 이용한 유기-무기 다층 분자막 구조 EUV 포토레지스트의 건식 현상 공정 성능 비교 연구-
dc.typeConference-
dc.citation.conferenceName2023 차세대 리소그래피 학술대회-
dc.citation.conferencePlace수원 컨벤션센터-
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서울 공과대학 > 서울 신소재공학부 > 2. Conference Papers

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Ahn, Jinho
COLLEGE OF ENGINEERING (SCHOOL OF MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING)
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