Detailed Information
Cited 0 time in 
Cited 0 time in 
Cited 0 time in
Metadata Downloads
수소 이온 주입 에너지 및 후속 열처리 조건에 따른 Si Wafer 내부 Cleavage 형성 영향
Full metadata record
| DC Field | Value | Language |
|---|---|---|
| dc.contributor.author | 최창환 | - |
| dc.date.accessioned | 2021-08-03T06:33:13Z | - |
| dc.date.available | 2021-08-03T06:33:13Z | - |
| dc.date.issued | 2016-04-28 | - |
| dc.identifier.uri | https://scholarworks.bwise.kr/hanyang/handle/2021.sw.hanyang/36885 | - |
| dc.title | 수소 이온 주입 에너지 및 후속 열처리 조건에 따른 Si Wafer 내부 Cleavage 형성 영향 | - |
| dc.type | Conference | - |
| dc.citation.conferenceName | 대한금속재료학회 춘계학술대회 | - |
| dc.citation.conferencePlace | 경주화백컨벤션센터 | - |
- Files in This Item
- There are no files associated with this item.
- Appears in
Collections - 서울 공과대학 > 서울 신소재공학부 > 2. Conference Papers
Items in ScholarWorks are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.
Related Researcher
- Choi, Chang hwan
- COLLEGE OF ENGINEERING (SCHOOL OF MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING)