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두께가 다른 2개의 게이트 산화막과 질화막 층을 포함한 FinFET구조를 가진 2-비트 낸드플래시 기억소자의 전기적 성질

Authors
김태환
Issue Date
17-Feb-2010
Publisher
한국진공학회
Citation
2010년 한국 진공학회 동계 정기학술대회
URI
https://scholarworks.bwise.kr/hanyang/handle/2021.sw.hanyang/59522
Conference Name
2010년 한국 진공학회 동계 정기학술대회
Place
현대성우리조트, 횡성, Korea
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서울 공과대학 > 서울 융합전자공학부 > 2. Conference Papers

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