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ECR plasma CVD를 이용한 LIGA용 X-ray mask membrane SiCxNy 박막의 증착
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| DC Field | Value | Language |
|---|---|---|
| dc.contributor.author | 안진호 | - |
| dc.date.accessioned | 2021-08-04T09:23:41Z | - |
| dc.date.available | 2021-08-04T09:23:41Z | - |
| dc.date.issued | 20001103 | - |
| dc.identifier.uri | https://scholarworks.bwise.kr/hanyang/handle/2021.sw.hanyang/79996 | - |
| dc.description.abstract | 본 연구는 뛰어난 기계적 성질과 전기적인 특성으로 microelectronic, coating기술 등에서 활발히 연구가 진행되고 있는 삼원계 SiCN물질에 대하여 멤브레인으로서의 적용가능성에 대해서 조사하였고 증착 장비로는 박막조성의 조절 가능성이나 표면 평활도등이 우수한 방법으로 보고 되어있는 ECR plasma CVD를 이용하였다. | - |
| dc.title | ECR plasma CVD를 이용한 LIGA용 X-ray mask membrane SiCxNy 박막의 증착 | - |
| dc.type | Conference | - |
| dc.citation.conferenceName | 한국마이크로전자 및 패키징학회 2000년도 추계 기술심포지움 | - |
| dc.citation.conferencePlace | 단국대 | - |
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Collections - 서울 공과대학 > 서울 신소재공학부 > 2. Conference Papers
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- COLLEGE OF ENGINEERING (SCHOOL OF MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING)