한일 추격 성과와 기술혁신 집중도

Abstract

본 연구는 한일 추격의 성과를 설명하는 요인으로서 기술능력에 관련된 혁신활동이 특정 분야나 부문에 얼마나 집중되어 있는지 분석하는 데 목적이 있다. 이를 위해 기술혁신 활동의 투입에 해당하는 R&D와 산출에 해당하는 특허로 나누어 한일 양국 산업별 R&D 지출 금액과 USPTO 특허 건수의 분포로부터 집중도를 계산하였다. 먼저 R&D의 경우 전 연도에 걸쳐 한국의 엔트로피 지수가 일본보다 낮아서 집중도가 높았다. 따라서 한국은 일본에 비해 몇몇 주요산업에 R&D 지출이 집중하는 경향을 보인다고 할 수 있다. 또한 특허에 있어서도 모든 연도에 한국이 일본보다 낮은 엔트로피 지수를 보여 집중도가 높았다. 따라서 한국의 특허취득이 특정분야에 더 몰리는 경향을 보인다고 할 수 있다. 집중도 자체와 다른 이슈로서 R&D가 투입되어 얼마나 많은 특허를 산출하는지의 효율성에 관해 한일 비교를 하였다. 기간 전체에 걸쳐 한국의 효율성이 일본보다 높은 것으로 나타났다. 이는 한국이 특정분야에 국한하여 R&D와 특허의 활동을 하지만 R&D를 특허로 연결하는 성과 측면에서는 일본보다 우월하다는 점을 의미한다. 3개의 한일 역전 산업(D램, TFT-LCD, TV)만을 보는 경우 3개 산업 특허의 비중이 한국이 일본보다 훨씬 높았다. 또한 특허의 집중도를 상위 n사 집중률로 계산하면 모든 집중률 지수에서 한국이 일본보다 압도적으로 높은 수치를 보였다. 이로써 한국은 잘 나가는 특정산업에서 집중된 특허 능력을 갖고 있고 소수의 상위기업들에 의해 주도되고 있음을 알 수 있다.