한일 추격 성과와 기술혁신 집중도Performance of Korean Catching-up with Japan and Concentration of Technological Innovation
- Other Titles
- Performance of Korean Catching-up with Japan and Concentration of Technological Innovation
- Authors
- 김용열
- Issue Date
- 2021
- Publisher
- 서울대학교 국제학연구소
- Keywords
- 한일; 집중도; R& D; 특허; 엔트로피; Korea and Japan; Concentration; R& D; Patent; Entropy
- Citation
- 국제.지역연구, v.30, no.2, pp.163 - 187
- Journal Title
- 국제.지역연구
- Volume
- 30
- Number
- 2
- Start Page
- 163
- End Page
- 187
- URI
- https://scholarworks.bwise.kr/hongik/handle/2020.sw.hongik/15667
- DOI
- 10.56115/RIAS.2021.06.30.2.163
- ISSN
- 1226-7317
- Abstract
- 본 연구는 한일 추격의 성과를 설명하는 요인으로서 기술능력에 관련된 혁신활동이 특정 분야나 부문에 얼마나 집중되어 있는지 분석하는 데 목적이 있다. 이를 위해 기술혁신 활동의 투입에 해당하는 R&D와 산출에 해당하는 특허로 나누어 한일 양국 산업별 R&D 지출 금액과 USPTO 특허 건수의 분포로부터 집중도를 계산하였다.
먼저 R&D의 경우 전 연도에 걸쳐 한국의 엔트로피 지수가 일본보다 낮아서 집중도가 높았다. 따라서 한국은 일본에 비해 몇몇 주요산업에 R&D 지출이 집중하는 경향을 보인다고 할 수 있다. 또한 특허에 있어서도 모든 연도에 한국이 일본보다 낮은 엔트로피 지수를 보여 집중도가 높았다. 따라서 한국의 특허취득이 특정분야에 더 몰리는 경향을 보인다고 할 수 있다. 집중도 자체와 다른 이슈로서 R&D가 투입되어 얼마나 많은 특허를 산출하는지의 효율성에 관해 한일 비교를 하였다. 기간 전체에 걸쳐 한국의 효율성이 일본보다 높은 것으로 나타났다. 이는 한국이 특정분야에 국한하여 R&D와 특허의 활동을 하지만 R&D를 특허로 연결하는 성과 측면에서는 일본보다 우월하다는 점을 의미한다. 3개의 한일 역전 산업(D램, TFT-LCD, TV)만을 보는 경우 3개 산업 특허의 비중이 한국이 일본보다 훨씬 높았다. 또한 특허의 집중도를 상위 n사 집중률로 계산하면 모든 집중률 지수에서 한국이 일본보다 압도적으로 높은 수치를 보였다. 이로써 한국은 잘 나가는 특정산업에서 집중된 특허 능력을 갖고 있고 소수의 상위기업들에 의해 주도되고 있음을 알 수 있다.
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