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저온 수열 합성법에 의해 (1-102) 사파이어 기판상에 성장된 무분극 ZnO Layer 에 관한 연구

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dc.contributor.author장주일-
dc.contributor.author오태성-
dc.contributor.author하준석-
dc.date.accessioned2021-11-11T03:41:11Z-
dc.date.available2021-11-11T03:41:11Z-
dc.date.created2021-10-25-
dc.date.issued2014-
dc.identifier.issn1226-9360-
dc.identifier.urihttps://scholarworks.bwise.kr/hongik/handle/2020.sw.hongik/16816-
dc.description.abstract본 연구에서는 낮은 비용과 간단한 공정의 장점을 가지고 있는 저온수열합성법을 이용하여 r-plane (1-102)sapphire 기판 위에 non-polar a-plane ZnO 박막을 성장하였다. 일반적으로 nanorod 형태의 ZnO를 성장시키는 특성을 보이는 Hexamethylenetetramine (HMT)와 2D layer 형태의 ZnO를 성장특성을 보이는 것으로 알려진 sodium citrate, 두 가지 전구체를 동시에 첨가하여 성장 하였을 때 몰 농도의 변화에 따른 ZnO 성장 특성을 비교해 보았다. ZnO 구조체의 형태와 특성 변화에 대하여 field emission scanning electron microscope (FE-SEM), high resolution X-ray diffraction(HRXRD)을 이용하여 분석을 진행하였다. 결과적으로, 두 가지의 용액의 특정 몰 농도일 때 r-plane (1-102) sapphire 기판 위에서 non polar a-plane (11-20) ZnO 구조체가 성장 될 수 있음을 확인 하였다. 이는 첨가제 조건에 의하여 c축 성장을 억제시키고, 측면 성장을 촉진시키는 반응에 의한 것으로 생각된다.-
dc.language한국어-
dc.language.isoko-
dc.publisher한국마이크로전자및패키징학회-
dc.title저온 수열 합성법에 의해 (1-102) 사파이어 기판상에 성장된 무분극 ZnO Layer 에 관한 연구-
dc.title.alternativeGrowth of Non-Polar a-plane ZnO Layer On R-plane (1-102) Sapphire Substrate by Hydrothermal Synthesis-
dc.typeArticle-
dc.contributor.affiliatedAuthor오태성-
dc.identifier.doi10.6117/kmeps.2014.21.4.045-
dc.identifier.bibliographicCitation마이크로전자 및 패키징학회지, v.21, no.4, pp.45 - 49-
dc.relation.isPartOf마이크로전자 및 패키징학회지-
dc.citation.title마이크로전자 및 패키징학회지-
dc.citation.volume21-
dc.citation.number4-
dc.citation.startPage45-
dc.citation.endPage49-
dc.type.rimsART-
dc.identifier.kciidART001950707-
dc.description.journalClass2-
dc.description.journalRegisteredClasskci-
dc.subject.keywordAuthorNon-polar ZnO-
dc.subject.keywordAuthorHydrothermal Synthesis-
dc.subject.keywordAuthorR-plane sapphire-
dc.subject.keywordAuthorAZO seed layer-
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College of Engineering > Materials Science and Engineering Major > 1. Journal Articles

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