다공성 탄소전극기지상의 무전해 니켈도금에 관한 연구Electroless Nickel Plating on Porous Carbon Substrate
- Other Titles
- Electroless Nickel Plating on Porous Carbon Substrate
- Authors
- 천소영; 임영목; 이재호; 김두현
- Issue Date
- 2010
- Publisher
- 한국마이크로전자및패키징학회
- Keywords
- electroless nickel plating; porous carbon; MCFC; palladium chloride
- Citation
- 마이크로전자 및 패키징학회지, v.17, no.1, pp.75 - 80
- Journal Title
- 마이크로전자 및 패키징학회지
- Volume
- 17
- Number
- 1
- Start Page
- 75
- End Page
- 80
- URI
- https://scholarworks.bwise.kr/hongik/handle/2020.sw.hongik/21445
- ISSN
- 1226-9360
- Abstract
- 다공성 탄소전극기지 위의 무전해 니켈도금에 관한 연구를 하였다. 다공성 탄소전극기지로는 다공도가 20 μm 이상인 것과 16~20 μm 인 것을 사용하였다. 소수성인 탄소 표면은 60oC 이상의 암모니아 용액에 침적함으로써 그 표면성질이 친수성으로 변화 되었고, 40분 이상 침적 시 접촉각이 20o 이하까지 측정 되었다. 도금욕의 pH가 증가됨에 따라탄소기지 위에 도금된 니켈 도금층의 인의 석출량은 감소하였으며 니켈 도금층이 결정질 구조를 갖는 현상이 관찰되었다. 도금층의 두께는 pH가 증가함에 따라 증가하였다. 활성화 처리를 위한 PdCl2의 농도에 따른 도금층의 두께 변화는없었으나, 도금에 필요한 PdCl2의 최소농도는 5 ppm 이상인 것으로 나타났다.
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