돌출부를 지닌 전극의 전기도금시스템에 대한 이론적 이차 전류분포 해석

Abstract

돌출부를 지니고 있는 전극의 전기도금 공정에 대한 이론적 이차 전류분포에 대하여 고찰하였다. 전극이 모두 전도체인 경우(Case 1)와 돌출부위만 전도체인 경우(Case 2) 두 가지 경우에 대하여 인가전위, 이온교환 전류밀도와 용액의 비전도도의 비인 ξ값, aspect ratio의 영향 등에 대하여 살펴보았다. 그 결과 인가 전위와 ξ값이 증가할수록 전류분포는 불균등화가 심화됨을 알 수 있 었다. Aspect ratio가 작아질수록 전류분포가 보다 균등화되며 Case 2의 경우가 Case 1의 경우 보다 균등도가 좋아짐을 알 수 있었다. 돌출부위가 다양한 모양으로 이루진 전극에 대해서도 이 모 델을 적용한 결과 전극 표면에 따른 국부 전류분포를 동시에 계산할 수 있음을 알 수 있었고 이 경우에도 이전과 마찬가지로 ξ값이 감소할수록 전류분포의 균등도가 좋아짐을 알 수 있었다.