모스아이 패턴의 충전공정에 대한 점탄성 유한요소해석Viscoelastic Finite Element Analysis of Filling Process on the Moth-Eye Pattern
- Other Titles
- Viscoelastic Finite Element Analysis of Filling Process on the Moth-Eye Pattern
- Authors
- 김국원; 이기연; 김남웅
- Issue Date
- 2014
- Publisher
- 한국산학기술학회
- Keywords
- Filling process; Moth-eye pattern; Nanoimprint lithgraphy; Viscoelastic finite element analysis
- Citation
- 한국산학기술학회논문지, v.15, no.4, pp.1838 - 1843
- Journal Title
- 한국산학기술학회논문지
- Volume
- 15
- Number
- 4
- Start Page
- 1838
- End Page
- 1843
- URI
- https://scholarworks.bwise.kr/sch/handle/2021.sw.sch/12913
- DOI
- 10.5762/KAIS.2014.15.4.1838
- ISSN
- 1975-4701
- Abstract
- 나노 임프린트 리소그래피는 수십 나노미터에서 수십 마이크론에 이르는 패턴을 간단하고 저비용으로 대면적 기판에 제작할 수 있어 차세대 패터닝 기술로 주목 받고 있다. 특히, 발광소자, 태양전지, 디스플레이 등의 분야에서는 저반사 나노패턴, 광결정 패턴 등 기능성 패턴을 제작하고 이를 적용하는 연구가 활발히 진행 중에 있다. NIL 공정을 통해 성공적으로 패턴을 전사시키기 위해서는 적절한 공정조건의 선택이 필요하다. 이에 본 연구에서는 열 나노임프린트를 이용하여 모스아이 패턴을 전사할 때, 충전과정 및 잔류층 형성을 수치 해석하여 폴리머 레지스트의 점탄성 거동을 살펴 보았고, 레지스트 초기 코팅 두께의 변화 및 가압력의 변화가 충전과정 및 잔류층에 미치는 영향을 조사하였다. 해석결과 본 논문에서 고려된 PMMA의 경우, 4 MPa 이상의 압력에서 100초 내로 충전공정이 완료되는 것으로 나타났다.
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