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나노임프린트 공정에서의 충전과정과 잔류층 형성에 관한 연구A Study on the Filling Process and Residual Layer Formation in Nanoimprint Lithography Process
- Other Titles
- A Study on the Filling Process and Residual Layer Formation in Nanoimprint Lithography Process
- Issue Date
- 2012
- Publisher
- 한국산학기술학회
- Keywords
- Viscoelasticity analysis model; Filling process; Residual layer; Nanoimprint experiment
- Citation
- 한국산학기술학회논문지, v.13, no.9, pp.3835 - 3840
- Journal Title
- 한국산학기술학회논문지
- Volume
- 13
- Number
- 9
- Start Page
- 3835
- End Page
- 3840
- ISSN
- 1975-4701
- Abstract
- 최근 나노임프린트 리소그래피 공정이 마이크로/나노 스케일의 소자 개발에 있어서 경제적으로 대량 생산할 수 있는 기술로 주목 받고 있다. 나노임프린트 공정에 대해서, 최근까지 수많은 연구가 이루어지고 있으나, 대부분 R&D 수준의 재료 및 제조와 관련된 실험적 결과 혹은 공정이해 수준의 수치해석적 연구에 그치고 있다. 본 연구에서는 유한요소법을 이용한 점탄성 해석모델을 완성하여 나노임프린트 공정의 충전과정 및 잔류층 형성을 해석하고, 패턴 전사 실험을 통하여 해석의 정확성을 검증하였다.
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- Appears in
Collections - College of Engineering > Department of Mechanical Engineering > 1. Journal Articles
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Related Researcher
- Kim, KUG WEON
- College of Engineering (Department of Mechanical Engineering)