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Showing results 1 to 1 of 1
Effects of O-2 annealing after etching SrBi2Ta2O9 thin film in Cl-2/CF4/Ar plasma
Kim, D.P.;
Kim, C.I.
; Yu, B.G.
Article
Issue Date
2003
Citation
MICROELECTRONIC ENGINEERING, v.66, no.1-4, pp 904 - 911
Publisher
ELSEVIER SCIENCE BV
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