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ITO기판을 이용한 불순물 증착에 관한 연구A Study on Impurity Deposition using of ITO Substrate

Other Titles
A Study on Impurity Deposition using of ITO Substrate
Authors
박정철추순남
Issue Date
2015
Publisher
한국인터넷방송통신학회
Keywords
ITO glass. RF power; RF magnetron sputtering; substrate temperature; ohmic contact
Citation
한국인터넷방송통신학회 논문지, v.15, no.6, pp.231 - 238
Journal Title
한국인터넷방송통신학회 논문지
Volume
15
Number
6
Start Page
231
End Page
238
URI
https://scholarworks.bwise.kr/gachon/handle/2020.sw.gachon/11228
DOI
10.7236/JIIBC.2015.15.6.231
ISSN
2289-0238
Abstract
본 연구는 RF 마그네트론 스퍼터링을 이용하여 ITO glass 위에 N-Type과 P-Type 박막을 증착하여 증착 조건에 따른 면저항 특성을 확인하였다. N-Type의 I-V특성은 RF Power가 150 W 일 때 전류의 값이 가장 높은 것으로 나타났고, 15분을 증착하였을 때 기울기가 일정하게 나타나면서 Ohmic contact이 잘 이루어지는 것을 확인 할 수 있었다. 기판온도와 RF Power 및 증착시간이 증가함에 따라 면저항이 증가하는 것으로 나타났고, 면저항이 작은 값일수록 I-V 특성이 잘 나타났다. P-Type 에서도 N-Type과 비슷한 양상을 보이는데, RF Power가 150 W일때 전류가 가장 높은 것으로 나타났고, 20분을 증착하였을 때 Ohmic contact이 잘 이루어지는 것을 확인 할 수 있었다. 면저항 또한 N-Type과 비슷하게 RF Power와 증착시간이 증가함에 따라 면저항이 증가하는 것을 확인 할 수 있었다.
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