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유전체층 위의 완전도체띠 격자구조에 의한 TE 산란에 관한 연구A Study on TE Scattering by a Conductive Strip Grating Over a Dielectric Layer

Other Titles
A Study on TE Scattering by a Conductive Strip Grating Over a Dielectric Layer
Authors
윤의중
Issue Date
2015
Publisher
한국산학기술학회
Keywords
condutive boundary condition; fourier galerkin moment method; point matching method; TE scattering.
Citation
한국산학기술학회논문지, v.16, no.6, pp.4158 - 4163
Journal Title
한국산학기술학회논문지
Volume
16
Number
6
Start Page
4158
End Page
4163
URI
https://scholarworks.bwise.kr/gachon/handle/2020.sw.gachon/11495
DOI
10.5762/KAIS.2015.16.6.4158
ISSN
1975-4701
Abstract
본 논문에서는 유전체층 위의 완전도체띠 격자구조에 의한 TE(transverse electric)산란 문제를 전자파 수치해석 방법으로 알려진 FGMM(fourier-Galerkin moment method) 및 PMM(point matching method)을 이용하여 해석하였다. 산란전자계는 Floquet 모드함수의 급수로 전개하였고, 경계조건은 미지의 계수를 구하기 위하여 적용하였으며, 완전도체의 경계조건은 접선성분의 전계와 스트립위에 유도되는 전류와의 관계를 이용하였다. 도체띠의 폭과 주기, 유전층의 비유전율과 두께 및 입사각에 대해 정규화된 기하광학적 반사 및 투과전력을 계산하였다. 전반적으로 유전체층의 비유전율이 증가할수록 기하광학적 정규화된 반사전력이 증가하였다. 본 논문의 정확도를 검증하기 위하여 FGMM의 수치결과들은 PMM을 이용한 수치계산 결과들과 비교하여 매우 잘 일치하였다.
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