2중 유전체층 사이의 저항띠 격자구조에 의한 TM 산란에 관한 연구A Study on TM Scattering by a Resistive Strip Grating Between a Double Dielectric Layer
- Other Titles
- A Study on TM Scattering by a Resistive Strip Grating Between a Double Dielectric Layer
- Authors
- 윤의중
- Issue Date
- Feb-2021
- Publisher
- 한국인터넷방송통신학회
- Keywords
- TM scattering; PMM; resistive boundary condition; double dielectric layer; resistivity; relative permittivity; strip spacing; strip width.
- Citation
- 한국인터넷방송통신학회 논문지, v.21, no.1, pp.49 - 54
- Journal Title
- 한국인터넷방송통신학회 논문지
- Volume
- 21
- Number
- 1
- Start Page
- 49
- End Page
- 54
- URI
- https://scholarworks.bwise.kr/gachon/handle/2020.sw.gachon/80256
- DOI
- 10.7236/JIIBC.2021.21.1.49
- ISSN
- 2289-0238
- Abstract
- 본 논문에서는 2중 유전체층 사이의 저항띠 격자구조에 의한 E-분극 전자파 산란 문제는 전자파 수치해석방법으로 알려진 PMM(Point Matching method)를 이용하여 해석하였다. 경계조건들은 미지의 계수를 구하기 위하여 이용하였고, 저항띠의 해석을 위해 저항띠 경계조건을 적용하였다. 2중 유전층 사이의 비유전율과 두께 및 저항띠의 저항율에대해 정규화된 반사전력과 투과전력을 계산하였다. 전반적으로 저항띠의 저항율이 작아지거나 유전체 층의 비유전율이증가할수록 반사전력은 증가하였으며, 반사전력이 증가하면 투과전력은 상대적으로 감소하였다. 특히, 2중 유전체 층의비유전율이 증가할수록 반사전력의 변곡점의 최소 값은 격자주기가 작아지는 방향으로 이동하였다. 본 논문의 제안된구조에 대한 수치결과들은 기존논문의 수치해석 결과들과 비교하여 매우 잘 일치하였다.
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