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FGMM을 이용한 2중 유전체층 사이의 저항띠 격자구조에 의한 TM 산란 해Solution of E-polarized Scattering by a Resistive Strip Grating Between a Double Dielectric Layer Using FGMM
- Other Titles
- Solution of E-polarized Scattering by a Resistive Strip Grating Between a Double Dielectric Layer Using FGMM
- Authors
- 윤의중
- Issue Date
- May-2023
- Publisher
- 국제문화기술진흥원
- Keywords
- TM scattering; Resistive Boundary Condition; Double Dielectric Layer; PMM; FGMM; TM 산란; 저항경계조건; 2중 유전체층; PMM; FGMM.
- Citation
- 문화기술의 융합, v.9, no.3, pp.641 - 646
- Journal Title
- 문화기술의 융합
- Volume
- 9
- Number
- 3
- Start Page
- 641
- End Page
- 646
- ISSN
- 2384-0358
- Abstract
- 본 논문에서는 2중 유전체층 사이의 저항띠 격자구조에 의한 TM(transverse magnetic) 산란 문제를 전자파 수치해석 방법으로 알려진 FGMM(fourier galerkin moment method)를 이용하여 해석하였다. 경계조건들은 미지의 계수를 구하기 위하여 이용하였고, 산란 전자계는 Floquet 모드 함수의 급수로 전개하였고, 저항띠의 해석을 위해 저항 경계조건을 적용하였다. 전반적으로, 저항띠의 균일저항율이 증가하면 저항띠에 유도되는 전류밀도의 크기는 감소하였고 반사 전력은 감소하였으며, 상대적으로 투과전력은 증가하였다. 또한 유전체 층의 두께가 증가할수록 반사전력은 증가하였고 상대적으로 투과전력은 상대적으로 감소하였다. 본 논문에서 제안된 구조에 대한 수치결과들은 기존 논문의 수치해석 방법인 PMM의 결과들과 비교하여 매우 잘 일치하였다.
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Collections - 보건과학대학 > 의용생체공학과 > 1. Journal Articles
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- Yoon, Uei Joong
- College of IT Convergence (의공학과)