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플라즈마 처리가 원거리 원자층 증착법으로 증착된 실리콘 질화물 게이트 스페이서에 끼치는 효과
- Authors
- 전형탁
- Issue Date
- 20-Apr-2018
- Place
- 한국기계연구원
- Conference Name
- 2018년 춘계학술대회 4차 산업혁명을 준비하는 반도체/디스플레이 기술
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- Appears in
Collections - 서울 공과대학 > 서울 신소재공학부 > 2. Conference Papers
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