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TSV 필링 공정에서 평활제가 구리 비아필링에 미치는 영향 연구The Effects of Levelers on Electrodeposition of Copper in TSV Filling

Other Titles
The Effects of Levelers on Electrodeposition of Copper in TSV Filling
Authors
정명원김기태구연수이재호
Issue Date
2012
Publisher
한국마이크로전자및패키징학회
Keywords
Copper electroplating; Polarization; Via Filling; Leveler
Citation
마이크로전자 및 패키징학회지, v.19, no.2, pp.55 - 59
Journal Title
마이크로전자 및 패키징학회지
Volume
19
Number
2
Start Page
55
End Page
59
URI
https://scholarworks.bwise.kr/hongik/handle/2020.sw.hongik/19504
DOI
10.6117/kmeps.2012.19.2.055
ISSN
1226-9360
Abstract
TSV 비아필링 과정이 진행되는 동안 내부에 void나 seam과 같은 결함이 빈번하게 발견되고 있다. 결함 없는구리 비아필링을 위해서는 용액 내에 가속제, 억제제, 평활제 등의 유기물 첨가제가 필요하다. 공정과정중 유기물 첨가제의 분해로 인한 부산물로부터 기인한 오염은 디바이스의 신뢰도나 용액의 수명을 감소시키는 요인이 된다. 본 연구에서는 첨가제의 사용량을 줄이기 위하여 가속제와 억제제를 사용하지 않고 평활제만을 이용한 구리 비아필링에 관한 연구를 진행하였다. 세가지 종류의 첨가제(janus green B, methylene violet, diazine black)를 이용한 구리 전착에 관한 연구를 수행하였다. 각각의 첨가제에 따른 전기화학적 거동을 분석한 결과 도금속도적 측면에서 차이를 나타내는 것을 확인할 수 있었다. 비아필링 진행 후 단면을 분석하여 각각의 평활제가 비아필링에 미치는 영향을 확인하였으며, 그 특성은다르게 나타나는 것을 확인할 수 있었다.
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College of Engineering > Materials Science and Engineering Major > 1. Journal Articles

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