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고전류밀도에서 첨가제에 따른 구리도금의 표면 특성 연구The Effect of Additives on the High Current Density Copper Electroplating

Other Titles
The Effect of Additives on the High Current Density Copper Electroplating
Authors
심진용문윤성허기수구연수이재호
Issue Date
2011
Publisher
한국마이크로전자및패키징학회
Keywords
RDE; Copper; Electroplating; Limiting current density; Additive
Citation
마이크로전자 및 패키징학회지, v.18, no.1, pp.29 - 33
Journal Title
마이크로전자 및 패키징학회지
Volume
18
Number
1
Start Page
29
End Page
33
URI
https://scholarworks.bwise.kr/hongik/handle/2020.sw.hongik/20418
ISSN
1226-9360
Abstract
전류밀도는 전기도금법에서 생산성과 직접적인 연관이 있고, 생산성의 증가를 위해선 고전류밀도가 필요하다. 회전전극(RDE)의 회전 속도를 증가시키면 고유속을 얻을 수 있다. 유속 조절을 위해 회전전극과 원통형 회전 전극을사용하였고, 전압과 전류의 관계를 알아보기 위해 정전류, 정전압 실험과 linear sweep voltammetry 실시하였다. 회전 전극의 회전 속도가 400 rpm이상 조건에서, 수소가 발생하지 않고 1000 A/m²이상의 최대전류밀도가 가능하였다. 25℃와62℃ 조건에서 구리의 확산계수는 각각 5.5×10^(-6)cm² s^(-1) 와 10.5×10^(-6)cm² s^(-1)로 계산되었다. 수소가 발생하지 않으면서안정적으로 구리를 전착할 수 있는 조건은 -0.05 V (vs Ag/AgCl)이었다. 첨가제인 glue와 thiourea를 넣음으로써 구리의침상성장을 막을 수 있었다. 표면 거칠기는 UV-Vis Spectrophotometer를 이용하여 분석되었다. 600 nm 영역에서 반사도는 측정 되었고 표면 거칠기가 개선될수록 표면 반사도가 증가하였다.
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College of Engineering > Materials Science and Engineering Major > 1. Journal Articles

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