MEMS기술을 이용한 전해 도금된 구리 마이크로 빔 구조물 제작에 관한 연구

Abstract

MEMS 기술을 이용하여 릴리즈 된 전해 도금된 구리 마이크로 빔 구조물을 제작하기 위한 공정조건을 수립하고 실제 제작하였다. LIGA-like 공정, 즉 희생층을 이용해 7㎛ 높이의 전해 도금을 위한 몰드를 제작하고 구리 전해도금을 하여 외팔보 형태와 브릿지 형태의 빔 구조물 을 만든 후 희생층을 제거하여 빔 구조물을 릴리즈시킨다. 도금 시 발생하는 도금의 불균일 문제를 해결하기 위해 도금 경로에 따른 도금의 불균일성의 영향을 줄일 수 있도록 마스크를 설계하였다. 이상적이고 완전한 형상의 마이크로 빔 구조물을 제작할 수 있도록 공정방법을 구현하였다. 특히, 희생층을 제거하기 앞서 상부 기반층에 남아 있는 금속층을 제거할 때 가스 나 식각액과 구리와의 반응성을 해결하기 위한 실험을 실행하여 대안을 제시하였다.