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2중 유전체층 사이의 완전도체띠 격자구조에 의한 TE 산란 해석Analysis of TE Scattering by a Conductive Strip Grating Between a Double Dielectric Layer
- Other Titles
- Analysis of TE Scattering by a Conductive Strip Grating Between a Double Dielectric Layer
- Authors
- 윤의중
- Issue Date
- 2019
- Publisher
- 한국인터넷방송통신학회
- Keywords
- TE scattering; Conductive boundary condition; double dielectric layer; PMM; FGMM.
- Citation
- 한국인터넷방송통신학회 논문지, v.19, no.2, pp.47 - 52
- Journal Title
- 한국인터넷방송통신학회 논문지
- Volume
- 19
- Number
- 2
- Start Page
- 47
- End Page
- 52
- ISSN
- 2289-0238
- Abstract
- 본 논문에서는 2중 유전체층 사이의 완전도체띠 격자구조에 의한 TE(transverse electric) 산란 문제는 전자파 수치해석 방법으로 알려진 FGMM(Fourier-Galerkin moment method)를 이용하여 해석하였다. 경계조건들은 미지의 계수를 구하기 위하여 이용하였고, 도체띠의 해석을 위해 완전도체 경계조건을 적용하였다. 도체띠의 폭과 주기, 2중 유전층 사이의 비유전율과 두께 및 입사각에 대해 정규화된 반사전력과 투과전력을 계산하였다. 전반적으로 유전율의 값이 증가하면 반사전력은 증가하며, 상대적으로 투과전력은 감소하였다. 유전율이 증가할수록 도체띠에 유도되는 전류밀도는 양쪽 끝으로 진행하면서 증가하였다. 본 논문의 제안된 구조에 대한 수치결과들은 기존 논문의 수치해석 결과들과 비교하여 매우 잘 일치하였다.
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Collections - 보건과학대학 > 의용생체공학과 > 1. Journal Articles
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