E-beam Lithography를 이용한 3차원 Air-bridge 구조의 제작기법

Abstract

본 실험에서는 E-Beam lithography 기술을 이용해서 3차원 구조물인 air-bridge를 제작해 보았다. wafer에 서로 다른 민감도를 지닌 PMMA를 다층구조로 쌓아올린 후 다양한 dose 값의 노광을 통해 bridge 형태의 구조를 제작하였다. 또한 설계된 디자인으로 patterning후에 한번의 Au, Cr 증착을 통해 bridge를 완성하였다. 본 연구에서 사용된 제작 방법을 통해 기존의 방법보다 빠른 진행과정으로 보다 신뢰성 있는 air-bridge를 완성하였으며 다양한 형태의 복잡한 구조물에 응용 가능함을 알게 되었다.

In this study the three-dimensional air-bridge structures are fabricated using Electron Beam Lithography. A bridge structure is formed by projecting electrons to PMMA multi-layers with varying dose values. Each PMMA layer is differently reacted to incident electrons. The air-bridge structures are fabricated with patterning and evaporating gold (Au) and chrome (Cr). Our fabrication method can be applied to various complex nano-scale structures. Likewise we are known that our process is faster than the previous method and is more reliable for fabricating air-bridge structures.