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스퍼터링된 산화 아연 박막의 레이저 직접 식각 시기판에 의한 영향Effects of Various Substrates on the Laser Direct Etching of the Sputtered ZnO Films

Other Titles
Effects of Various Substrates on the Laser Direct Etching of the Sputtered ZnO Films
Authors
오기택권상직조의식
Issue Date
2013
Publisher
한국전기전자재료학회
Keywords
ZnO; Glass; PET; PC; Nd:YVO4 laser; Direct etching
Citation
전기전자재료학회논문지, v.26, no.12, pp.894 - 898
Journal Title
전기전자재료학회논문지
Volume
26
Number
12
Start Page
894
End Page
898
URI
https://scholarworks.bwise.kr/gachon/handle/2020.sw.gachon/15088
DOI
10.4313/JKEM.2013.26.12.894
ISSN
1226-7945
Abstract
글라스 및 플렉서블 기판 등 다양한 기판 위에 스퍼터링으로 증착된 산화 아연 박막을 1,064 nm 파장의 Nd:YVO4 레이저를 이용하여 직접 패터닝을 시도하였다. 실험 결과, 특정 주파수 및 레이저 빔 스캔 스피드 조건에서 폴리카보네이트(PC) 기판 위 증착된 산화 아연 박막의 식각된 패턴을 얻을 수 있었다. 낮은 스캔 스피드의 경우 플렉서블 기판이 레이저 빔 에너지의 밀집으로 인하여 파괴되는 것을 확인하였으며, 기판에 따른 박막 패터닝 결과의 차이는 기판의 열팽창 계수와 열전도도의 차이로부터 발생했다 결론내릴 수 있었다.
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반도체대학 (반도체·전자공학부)
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