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BCl₃/Cl₂/Ar 플라즈마에서의 Na0.5K0.5NbO3 박막의 표면반응 Go to Link

김동표; 엄두승; 김관하; 우종창; 김창일

ArticleIssue Date2008Citation한국표면공학회지, v.41, no.6, pp 269 - 273Publisher한국표면공학회

유도 결합 플라즈마를 이용한 TaN 박막의 건식 식각 특성 Go to Link

진려; 주영희; 우종창; 김한수; 최경록; 김창일

ArticleIssue Date2013Citation전기전자재료학회논문지, v.26, no.1, pp 1 - 5Publisher한국전기전자재료학회

유도결합플라즈마를 이용한 O2/BCl3/Ar가스에 따른 Indium Tin Oxide 박막의 식각 특성 연구 Go to Link

위재형; 우종창; 김창일

ArticleIssue Date2010Citation전기전자재료학회논문지, v.23, no.10, pp 752 - 758Publisher한국전기전자재료학회

CH4 플라즈마에 따른 TiN 박막 표면의 식각특성 연구 Go to Link

우종창; 엄두승; 김관하; 김동표; 김창일

ArticleIssue Date2008Citation한국표면공학회지, v.41, no.5, pp 189 - 193Publisher한국표면공학회

Cl2/BCl3/Ar 플라즈마에서 반응성 이온들에 의해 식각된 ZnO 박막 표면 연구 Go to Link

우종창; 김창일

ArticleIssue Date2010Citation전기전자재료학회논문지, v.23, no.10, pp 747 - 751Publisher한국전기전자재료학회

Cl2/HBr/CF4 반응성 이온 실리콘 식각 후 감광막 마스크 제거

하태경; 우종창; 김관하; 김창일

ArticleIssue Date2010Citation전기전자재료학회논문지, v.23, no.5, pp 353 - 357Publisher한국전기전자재료학회

O2/BCl3/Ar 플라즈마를 이용한 HfAlO3 박막의 식각특성 연구

하태경; 우종창; 김창일

ArticleIssue Date2010Citation전기전자재료학회논문지, v.23, no.12, pp 924 - 928Publisher한국전기전자재료학회

시각 생체 모방 기술

엄두승; 정명애; 김창일; 김상협

ArticleIssue Date2009Citation한국정밀공학회지, v.26, no.11, pp 12 - 19Publisher한국정밀공학회

The dry etching properties on TiN thin film using an N<inf>2</inf>/BCl<inf>3</inf>/Ar inductively coupled plasma Go to Link

Woo, J.-C.; Joo, Y.-H.; Park, J.-S.; Kim, C.-I.

ArticleIssue Date2011CitationTransactions on Electrical and Electronic Materials, v.12, no.4, pp 144 - 147PublisherKorean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers

Pt/Bi3.25La0.75Ti3O12/ZrO2/Si (MFIS)-FET 구조를 위한ZrO2 Buffer Layer의 영향

김경태; 김창일

ArticleIssue Date2005Citation전기전자재료학회논문지, v.18, no.5, pp 439 - 444Publisher한국전기전자재료학회

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