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2. Conference Papers(서울 공과대학 > 서울 전기공학전공 > 2. Conference Papers)1,906

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Design and Simulation of a Microwave Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition System Operated at 2.45 GHz Using the Multiphysics Modeling based on a Finite Element Method

ConferenceIssue Date2023PlaceChengdu, China

Design and Simulation of an L-band Ferrite Waveguide Circulator for Industrial Applications

ConferenceIssue Date2023PlaceChengdu, China

병렬 평판형 헬리컬 공진기를 통한 플라즈마 균일도 개선

ConferenceIssue Date2023Place제주대학교 아라컨벤션홀 대회의실(제주)

Optical Emission Spectroscopy에서 viewport의 오염에 의한 광량 감소 보상법 연구

ConferenceIssue Date2023Place제주 대학교 아라컨벤션홀 대회의실(제주)

유도 결합 플라즈마에서 기판의 온도 변화에 따른 이온 밀도와 전자 온도 변화 연구

ConferenceIssue Date2023Place제주대학교 아라컨벤션홀 대회의실(제주)

high-Speed measurement for Pulsed Plasma Using the Floating Harmonic Method

ConferenceIssue Date2023Placegifu university(japan)

Electron Beam Energy Control Using multi-DC Grid in Ar/CF4 Inductively Coupled Plasma

ConferenceIssue Date2023Placegifu university(japan)

유도 결합 플라즈마에서 안테나의 권선수에 따른 병렬 공진 효과 연구

ConferenceIssue Date2023Place웰리힐리파크(강원도 횡성)

Ar/SiH4 유도 결합 플라즈마에서의 전자에너지확률분포 특성 연구

ConferenceIssue Date2023Place웰리힐리파크(강원도 횡성)

Retarding field energy analyzer (RFEA) 를 이용한 유도 결합 플라즈마(ICP)에서 이온 에너지 분포 측정

ConferenceIssue Date2023Place웰리힐리파크(강원도 횡성)

유도 결합 플라즈마에서 극저온 기판 온도와 플라즈마 상호 의존성 연구

ConferenceIssue Date2023Place웰리힐리파크(강원도 횡성)

평판형 헬리컬 공진기를 사용한 고밀도 플라즈마 소스 연구

ConferenceIssue Date2023Place웰리힐리파크(강원도 횡성)

Ar/He Plasma 에서 가스 조성비에 따른 봄 속도 및 이온 밀도 변화에 대한 연구

ConferenceIssue Date2023Place웰리힐리파크(강원도 횡성)

유도 결합 플라즈마에서 바이어스 전력에 따른 웨이퍼 위치에서의 전자 온도 및 이온 밀도 측정

ConferenceIssue Date2023Place웰리힐리파크(강원도 횡성)

유도 결합 플라즈마에서 π-type 매칭 네트워크 전력 전달 효율 측정 연구

ConferenceIssue Date2023Place웰리힐리파크(강원도 횡성)

Pulsed plasma measurement using the floating harmonic method with high-time resolution

ConferenceIssue Date2023Place웰리힐리파크(강원도 횡성)

Ar/CF4 유도 결합 플라즈마에서 이중 DC 그리드를 이용한 전자 빔 에너지 제어 연구

ConferenceIssue Date2023Place웰리힐리파크(강원도 횡성)

극저온 전자 온도 플라즈마의 발생 및 응용 연구(발표)

ConferenceIssue Date2023Place웰리힐리파크(강원도 횡성)

Improvement of spatial distribution measurement of plasma parameters through asymmetric double Langmuir probe

ConferenceIssue Date2022Place파라다이스호텔(부산)

Enhancement of photoresist etching by controlling the impedance between bias electrode and ground in an inductively coupled plasma

ConferenceIssue Date2022Place파라다이스 호텔(부산)

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